Zeta-20 Optical Profiler

 Zeta-20是一款緊湊牢固的全集成光學(xué)輪廓顯微鏡，可以提供3D量測(cè)和成像功能。該系統(tǒng)采用ZDot技術(shù)，可同時(shí)采集高分辨率3D數(shù)據(jù)和True Color（真彩）無限遠(yuǎn)焦點(diǎn)圖像。 Zeta-20具備Multi-Mode（多模式）光學(xué)系統(tǒng)、簡(jiǎn)單易用的軟件、以及低擁有成本，適用于研發(fā)及生產(chǎn)環(huán)境。

產(chǎn)品描述

 Zeta-20臺(tái)式光學(xué)輪廓儀是非接觸式3D表面形貌測(cè)量系統(tǒng)。 該系統(tǒng)采用ZDot技術(shù)和Multi-Mode (多模式)光學(xué)系統(tǒng)，可以對(duì)各種不同的樣品進(jìn)行測(cè)量：透明和不透明、由低至高的反射率、由光滑至粗糙的紋理，以及納米至毫米級(jí)別的臺(tái)階高度。

  Zeta-20的配置靈活并易于使用，并集合了六種不同的光學(xué)量測(cè)技術(shù)。ZDot測(cè)量模式可同時(shí)采集高分辨率3D數(shù)據(jù)和True Color（真彩）無限遠(yuǎn)焦點(diǎn)圖像。其他3D測(cè)量技術(shù)包括白光干涉測(cè)量、Nomarski干涉對(duì)比顯微鏡和剪切干涉測(cè)量。 ZDot或集成寬帶反射儀都可以對(duì)薄膜厚度進(jìn)行測(cè)量。 Zeta-20也是一種顯微鏡，可用于樣品復(fù)檢或自動(dòng)缺陷檢測(cè)。 Zeta-20通過提供的臺(tái)階高度、粗糙度和薄膜厚度的測(cè)量以及缺陷檢測(cè)功能，適用于研發(fā)及生產(chǎn)環(huán)境。

主要功能

·       采用ZDot和Multi-Mode（多模式）光學(xué)器件的簡(jiǎn)單易用的光學(xué)輪廓儀，具有廣泛的應(yīng)用

·       可用于樣品復(fù)檢或缺陷檢測(cè)的高質(zhì)量顯微鏡

·       ZDot：同時(shí)采集高分辨率3D數(shù)據(jù)和True Color（真彩）無限遠(yuǎn)焦點(diǎn)圖像

·       ZXI：白光干涉測(cè)量技術(shù)，適用于z向分辨率高的廣域測(cè)量

·       ZIC：干涉對(duì)比度，適用于亞納米級(jí)別粗糙度的表面并提供其3D定量數(shù)據(jù)

·       ZSI：剪切干涉測(cè)量技術(shù)提供z向高分辨率圖像

·       ZFT：使用集成寬帶反射計(jì)測(cè)量膜厚度和反射率

·       AOI：自動(dòng)光學(xué)檢測(cè)，并對(duì)樣品上的缺陷進(jìn)行量化

·       生產(chǎn)能力：通過測(cè)序和圖案識(shí)別實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)測(cè)量

主要應(yīng)用

·       臺(tái)階高度：納米到毫米級(jí)別的3D臺(tái)階高度

·       紋理：平滑到非常粗糙表面的粗糙度和波紋度

·       外形：3D翹曲和形狀

·       應(yīng)力：2D薄膜應(yīng)力

·       薄膜厚度：30nm到100μm透明薄膜厚度

·       缺陷檢測(cè)：捕獲大于1μm的缺陷

·       缺陷復(fù)檢：采用KLARF文件作為導(dǎo)航以測(cè)量缺陷的3D表面形貌或切割道缺陷位置

工業(yè)應(yīng)用

·       太陽能：光伏太陽能電池

·       半導(dǎo)體和化合物半導(dǎo)體

·       半導(dǎo)體 WLCSP（晶圓級(jí)芯片級(jí)封裝）

·       半導(dǎo)體FOWLP（扇出晶圓級(jí)封裝）

·       PCB和柔性PCB

·       MEMS（微機(jī)電系統(tǒng)）

·       醫(yī)療設(shè)備和微流體設(shè)備

·       數(shù)據(jù)存儲(chǔ)

·       大學(xué)，研究實(shí)驗(yàn)室和研究所

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